Dropli
EUV-licht maken met ongelooflijk korte golflengten
Sector: Halfgeleiders en fotonica (EUV-lithografie R&D)
Technologie: Aangepast ontwerp van meerlaagse printplaten
SPINNOV werkte samen metDropliaan een demonstratiemodel dat onderzoekt hoe het genereren van microfluïdische druppels met hoge frequentie het onderzoek naar halfgeleiders in een vroeg stadium kan versnellen. De opstelling maakt gebruik van waterdruppels om het gedrag van gesmolten tin in extreme ultraviolet (EUV) lichtbronnen na te bootsen, waardoor veilige, snelle iteratie mogelijk is op concepten die ten grondslag liggen aan geavanceerde lithografie.
Klant en doelen
Dropli ontwikkelt microfluïdische oplossingen voor onderzoek en industrieel gebruik. Het doel van het project was om een betrouwbare demonstrator te bouwen die ultraconsistente, hoogfrequente druppels kan produceren zodat onderzoekers timing, stabiliteit en interactie-effecten kunnen bestuderen die relevant zijn voor de ontwikkeling van EUV-lichtbronnen - zonder de complexiteit en het risico van gesmolten metalen.
Uitdagingen
Voor het maken van uniforme druppels bij hoge frequenties is een strakke controle nodig over de aandrijfsignalen en meetpaden. Het systeem had timing met een lage jitter nodig om activering, detectie en mogelijke laser-triggergebeurtenissen te coördineren, terwijl de signaalintegriteit behouden moest blijven in een geluidsgevoelige omgeving. Tegelijkertijd moest het platform modulair en bruikbaar blijven zodat R&D-teams de parameters snel konden aanpassen en herhaalbare experimenten konden uitvoeren.
De rol van SPINNOV
We ontwierpen de op maat gemaakte meerlaagse PCB in het hart van de demonstrator, waarbij we analoge en digitale secties ontwierpen met zorgvuldige klokken en synchronisatie om een stabiele werking op hoge frequenties te bereiken. De lay-out gaf prioriteit aan weinig ruis, schone retourpaden en EMC-robuustheid, en bevatte een laser-trigger-ready interface voor EUV-relevante timingstudies. We pasten ook design-for-manufacture en design-for-test toe en leverden duidelijke elektrische documentatie om het opstarten, diagnosticeren en iteratieve verfijningen te versnellen.
EUV-lithografie (~13,5 nm) genereert licht door tindruppeltjes in de lucht te raken met een CO₂-laser om plasma te creëren.
Met onze demonstratiemodel op waterbasis met kHz-druppels kunnen onderzoekers de afstand, groottestabiliteit en trigger-timing nauwkeurig beoordelen in een veiligere, gecontroleerde opstelling. Het rigoureuze PCB-ontwerp vermindert de risico's van vroege R&D en versnelt de stap van laboratoriumdemonstratie naar industriële haalbaarheid.
Laten we het over je project hebben
Wat gebeurt er daarna?
Onze experts nemen binnen 24 uur contact met u op.
Indien nodig ondertekenen we een geheimhoudingsverklaring om uw privacy te garanderen.
U ontvangt een gedetailleerd voorstel met schattingen en tijdlijnen.
