Dropli
EUV-licht maken met ongelooflijk korte golflengten
Industrie: Halfgeleiders & Fotonica (EUV-lithografie R&D)
Technologie: Multilayer PCB-ontwerp op maat
Bestronics Development werkt samen met Dropli aan een demonstratiemodel dat onderzoekt hoe hoogfrequente microfluïdische druppelgeneratie halfgeleideronderzoek in een vroeg stadium kan versnellen. De opstelling gebruikt waterdruppels om het gedrag van gesmolten tin in extreem ultraviolette (EUV) lichtbronnen na te bootsen, waardoor veilige, snelle iteratie mogelijk wordt van concepten die geavanceerde lithografie ondersteunen.
Klant en doelen
Dropli ontwikkelt microfluïdische oplossingen voor onderzoek en industrieel gebruik. Het doel van het project was om een betrouwbare demonstrator te bouwen die ultraconsistente, hoogfrequente druppels kan produceren zodat onderzoekers timing, stabiliteit en interactie-effecten kunnen bestuderen die relevant zijn voor de ontwikkeling van EUV-lichtbronnen - zonder de complexiteit en het risico van gesmolten metalen.
Uitdagingen
Voor het maken van uniforme druppels bij hoge frequenties is een strakke controle nodig over de aandrijfsignalen en meetpaden. Het systeem had timing met een lage jitter nodig om activering, detectie en mogelijke laser-triggergebeurtenissen te coördineren, terwijl de signaalintegriteit behouden moest blijven in een geluidsgevoelige omgeving. Tegelijkertijd moest het platform modulair en bruikbaar blijven zodat R&D-teams de parameters snel konden aanpassen en herhaalbare experimenten konden uitvoeren.
De rol van Bestronics
We ontwierpen de op maat gemaakte meerlaagse PCB in het hart van de demonstrator, waarbij we analoge en digitale secties ontwierpen met zorgvuldige klokken en synchronisatie om een stabiele werking op hoge frequenties te bereiken. De lay-out gaf prioriteit aan weinig ruis, schone retourpaden en EMC-robuustheid, en bevatte een laser-trigger-ready interface voor EUV-relevante timingstudies. We pasten ook design-for-manufacture en design-for-test toe en leverden duidelijke elektrische documentatie om het opstarten, diagnosticeren en iteratieve verfijningen te versnellen.
EUV-lithografie (~13,5 nm) genereert licht door tindruppeltjes in de lucht te raken met een CO₂-laser om plasma te creëren.
Met onze kHz-druppeldemonstrator op waterbasis kunnen onderzoekers de afstand, de stabiliteit van de grootte en de triggertiming nauwkeurig beoordelen in een veiligere, gecontroleerde opstelling. Rigoureus PCB-ontwerp vermindert de risico's in vroege O&O en versnelt de stap van labdemonstratie naar industriële haalbaarheid.
Bekijk meer succesverhalen zoals Dropli
Voertuigstopsysteem met veiligheidsmaatregelen voor eindgebruikers | Productontwerp
Smart Solar-motoren | Elektronica-ontwerp, UX/UI-ontwerp
